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Série SCSe:

Nettoyage simple face

Les Models de la série SCSe offrent une solution idéale pour le nettoyage sub-micronique des photo masques, tranche de silicium (Wafer) et divers substrats (Verre, Quartz, etc..). L’équipement peut être configuré avec différentes options de nettoyage tel que la buse haute pression, la buse mega-sonique, une brosse (Nylon ou PVA), des buses pour la pulvérisation de produits chimiques ou d’eau DI chauffée. On peut aussi configurer différents types de supports pour le maintient de pièces unitaire ou de plusieurs pièces en même temps. Equipement compatible (suivant le modèle) pour des substrats d’un
diamètre de  300mm jusqu’à 500mm .

 

 

Chambre-SF

 

 

 

  1. Moteur broche
  2. Bras Séchage Azote
  3. Buse Hte Pression
  4. Bras Oscillant Hte Pression
  5. Brosse
  6. Bras Oscillant Mega-sonique
  7. Lampe infra-rouge
  8. Drain
  9. Liner
  10. Ajustement Hauteur Brosse

SCSe 124

 

  • Nombre de bras disponibles : 2
  • Taille maximum des substrats : Wafers jusqu’à 12″
  • Vitesse de rotation maximum : 2500 tr/mn
  • Nombre de programmes : 10
  • Nombre de produits : 12
Spécifications détaillées

SCSe 133

 

  • Nombre de bras disponibles : 4
  • Taille maximum des substrats : Wafers jusqu’à 21″
  • Vitesse de rotation maximum : 2500 tr/mn
  • Nombre de programmes : 10
  • Nombre de produits : 12

 

Spécifications détaillées
Equipement SCSe124 avec option lampe UV
Equipement SCSe133 avec lampe UV

SCSe 126

 

  • Nombre de bras disponibles : 4
  • Taille maximum des substrats : Wafers jusqu’à 12″
  • Vitesse de rotation maximum : 2500 tr/mn
  • Nombre de programmes : 10
  • Nombre de produits : 12
Spécifications détaillées
Equipement SCSe126