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Nettoyage Megasonique

 

La technologie Megasonique peut être utilisée pour de nombreuses applications:

  • Nettoyage des FEOL et BEOL
  • Nettoyage et polissage post CMP
  • Résines épaisses telles que les SU-8
  • Suppression de résidus de colles
  • Amélioration de process LIGA/MEMS
  • Nettoyage de panneaux solaires lors de leur fabrication
  • Nettoyage de disques durs
  • Nettoyage de pièces diverses (quartz, tissus, …)
  • Partout ou un nettoyage de qualité et un temps de cycle réduit sont souhaités

Qu’est-ce que le nettoyage Mégasonique

Le nettoyage méga-sonique utilise l’effet piézo-électrique pour enlever les particules submicroniques des substrats.

Un cristal piézo-électrique est excité à haute fréquence créant ainsi une vibration.

Cette vibration génère une onde  acoustique qui est transmise via un fluide de nettoyage, produisant ainsi une cavitation contrôlée.

Quand l’onde passe sur la surface de l’objet, elle détache les particules du matériel en cours de traitement.

La cavitation créée une courant emportant les impureté et évitant qu’elles se collent de nouveau sur le matériau en cours de nettoyage

Les particularités et les avantages des transducteurs PROSYS

Le mode de fabrication des transducteurs, faisant l’objet de nombreux brevets, assure aux équipements PROSYS une qualité de nettoyage, une durée de vie et une fiabilité inégalées.

  • Mode de connexion entre le résonateur et le cristal breveté (effectué sans colle).
  • Energie acoustique directement et  uniformément appliquée (prouvé par des mesures).
  • Connexions RFbrevetée par des ressorts et un circuit imprimé RF (Pas de joint de soudure pouvant casser, pas de points chauds sur le cristal).
  • Le matériau du résonateur est neutre. Il n’ajoutera pas de particules au process
  • Compatible avec tout les produits chimiques (suivant les matériaux utilisés)
  • Pas de pièces mobiles
  • Pas de consommable (Fonctionnement meilleur qu’une brosse)
  • Pas de refroidissement liquide nécessaire (économie de place et facilité de mise en œuvre)
  • Moins d’énergie RF nécessaire pour un même niveau d’énergie dans le fluide de process (jusqu’à 8,3 db de différence)
  • Compatible avec des cuves existantes

Bains Lots de wafers en cassette2

MegBar En ligne sur convoyeur

Assemblage sole mégasonique
Jonction résonateur/Sole
Intégration dans une cuve